第180章 ASML又来了
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另一个时空，光刻机的发展经过了一个漫长的过程，1960 年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到 1970 年代的投影式光刻机，1980 年代的步进式光刻机，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和8102年的 EUV 光刻机，设备性能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。
曝光光源方面，从 1960 年代初到 1980 年代中期，汞灯已用于光刻，其光谱线分别为 436nm（g 线）、405nm（h 线）和 365nm（i 线）。然而，随着半导体行业对更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高产量（更低成本）的需求，基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求。
1982 年，IBM 的 Kanti Jain 开创性的提出了“excimer laser lithography（准分子激光光刻）”，并进行了演示，现在准分子激光光刻机器（步进和扫描仪）在全球集成电路生产中得到广泛使用。在在发展的 30 年中，准分子激光光刻技术一直是摩尔定律持续推进的关键因素。使得芯片制造中的最小特征尺寸从 1990 年的 500nm 推进至 2016 年 10nm，再到8102年的台积电和三星实现量产的 7nm 产品。
这其中，汞灯的436nm（g 线）、405nm（h 线）和 365nm（i 线），准分子激光248nm都指的是光刻机用来光刻的曝光光源。
1971年Intel 公司推出的10微米全球第一款4004微处理器，再到1980年2微米工艺的256Kb DRAM，1984年1微米工艺的1Mb DRAM，再到1991年此时即将问世的0.35微米工艺的64Mb DRAM ……10微米到0.35微米，指的是通过光刻机光刻等工艺，在芯片内部中，晶体管之间或者线最小可以做到的距离。
微米和纳米的概念，到底有多宽或者多细，大家可以体会一下：
1毫米（mm）等于1000微米（μm），一微米（mm）等于1000纳米（nm）。
而成年男性的头发直径一般在40到80微米之间，女性的头发直径则一般在20微米到40微米之间，小孩子的头发则是40微米左右。
也就是说，此时工艺为1微米的芯片中，晶体管的线宽大概是小孩头发直径的1/40；换而言之，直径40微米的头发横切之后的面积上，按照1微米的工艺光刻，可以光刻20-30个晶体管！
而光刻工艺越好，工艺制程越小，芯片集成度越高，性能越好，功耗越低。
所以，电子产品不断追求卓越性能的背后，是芯片的处理能力的不断上升！而反应到芯片生产厂家和芯片制造设备上，就是对芯片制程工艺的不断缩小和光刻机等设备光刻特征尺寸的不断缩小。
所以，余子贤一心一想要ASML可以制造出0.8微米工艺制程芯片的PAS5000光刻机，最次也要拿到1.2微米的PAS2300光刻机。甚至不惜，给ASML制造一些紧张气息，透露PAS5500扫描式步进光刻机的相关信息！
“你怎么知道我们PAS5500型光刻机即将上世的？”里托斯·基维先生站了起来，怼着余子贤的脸，严肃的问道！
“里托斯·基维先生，我们的合作的可能已经消失了……所以，很抱歉，我不可能告诉你原因的！”
“不不……余先生，一切皆有可能！”
“走吧……”余子贤直接带头站了起来，带着其他几个人向外走去！
余子贤就这样走出去，虽然更多的是想给ASML一些压力，让他们退让，愿意以合理价格出售自己想要的光刻机！就算是1微米的PAS2500出售有困难，但是如果ASML可以无偿将1.5微米的PAS2300升级到1.2微米，倒也不是不可以接受。
不过，余子贤在看到天下的乌鸦一般黑之后，已经做好了最坏的打算。之前，余子贤本来想着捡PAS2300的便宜，可是如果只是1.5微米的制程，余子贤还想再看一看，他想让曹飞他们再重点公关一下佳能，或许以可以接受的价格引进1.2微米的光刻机有可能！
里托斯·基维一看余子贤直接到这人走了，也是有点急了，再次大声喊道：“余先生，你等一等，我立即向总部申请！”
牵扯到PAS5500光刻机的上市，他不得不慎重。更何况，在他看来，香积电确实是PAS2300光刻机非常合适的买主！
目前，湾岛的苔积电和联华电厂房建设早已经结束，而前两年的苔积电，代工商业模式不被认可，订单稀少。经过这两年的发展，湾岛半导体行业才实现起步，开始逐步盈利。刚完成投资的苔积电，在短时间内很难继续再建设新生产线。
关键是随着PAS5500的上市，上市于85年PAS2300系列光刻机，处于即将被主流市场淘汰的边缘。
湾岛找不到买家，那么在尼康垄断的曰本和韩国市场，更不可能找到买家。难道真要运回去？
这些精密仪器，想要完好的运送回去，绕地球大半圈，从湾岛到芬兰，运费都在20万起步！
而一直放着也不是回事啊，既要给苔积电交场地租用费，还面临时间的推移和技术发展，这两台PAS2300光刻机不断贬值的危险！
可是想要满足香积电余子贤的要求，就需要对PAS2300光刻机进行升级，而且费用不小。一台50万美元的升级费用，如果算上人工材料等等费用没多要多少！
“首席，如果现在不乘机将这两台PAs2300卖出去的话，就不是赚多少的问题了，而是要亏损多少的问题！”
站在里斯托·基维里旁边的办事处销售代表阿莱克西斯·吕蒂（Aleksis·Ryti）忽然提醒道。
“……”从犹豫中抬起头的里斯托·基维却再没有看到余子贤他们的身影……跑到窗子跟前，看到是已经出了办公大楼余子贤他们的背影。
“哎，阿莱克西斯”，先给总部打电话吧，将这里的情况全部告诉他们，然后做进一步请示……”
“是的，里托斯首席。”阿莱克西斯低声说道。
而回到酒店的余子贤，正在召集大家集思广益。
“老板，我的工作没有做好，具体情况了解不到位！”佟若愚站了起来，首先自责并检讨道。
“佟总，您不必自责，这一次的谈判失败并不代表我们最终会失败，而且这一次，主要原因是我改变主意了。根据目前的技术发展，我们已经1.5微米工艺制程的设备，等我们大半年满产之后，主流工艺已经接近0.5微米了，会又落后一代。所以我想争取1微米的工艺，最不行1.2微米的工艺制程要保证！”
余子贤叹息了一口气，又说道：“只是没想到升级费用要50万，要价太狠！想买他们1微米PAS2500的光刻机，他们又不卖！”
“不过，等着吧，他们有可能还会上门来找我们的！”余子贤对于自己最后留下的诱饵有一半把握。
“鹿岛叔，结合你在NEC的经验，你先说说你的看法吧！”之前，鹿岛智树没怎么多说话。
在余子贤看来，鹿岛智树在NEC供职时期，何曾愁过设备的问题，所有的一切都有NEC操心，鹿岛智树他们只负责生产运维就行！
“余总，其实对于ASML的设备，我不熟悉，以前也未曾使用过。所以我想说的不多。不过我想强调一点的是，设备制造标准的统一性，具体来说就是和目前香积电已经存在的3微米光刻机的协调配合，甚至与曰本其他厂商生产的刻蚀机、离子注入机等设备配合，都要考虑在内！”
鹿岛智树给大家进一步解释……
香积电的工艺实验室（研发中心）和厂里生产线的批量生产的设备虽然属于同一机种，要将实验室的工艺导入到生产线，对生产线进行升级，想要得到最终理想的目标工艺结果，比如说1.2微米的工艺制程，就必须不断的对生产线的设备或者工艺做进一步调整，最后找到一个微妙的合适的某一点，或者无限接近这个点，最终让所有的设备和工艺处于最佳的状态，良率大幅度提高，确保在80以上……
如果这个点找不出来，就算是可以调试出1.2微米的制程来，但是良率会上不去……甚至有可能良率为零的可能！
要知道，即使是同一家生产的同一个规格型号的设备，也是存在这微小的性能和状态差异，这种差异称之为“机差”。
“机差”，是每一个半导体制造设备厂家在生产同一型号的设备时，因不可控因素的存在而导致的设备差异。
随着半导体设备精密化程度的不断提高，机差的问题也日益显著。
正是因为机差等各种因素影响，一般来说，新建设的生产线试生产时，初始良率几乎都是零。而将良率尽快提高到接近80%（或者某一目标值），并且长期维持接近80%（或者某一目标值）的成品率的技术，才是工厂批量生产的最终目标和要求！
“所以，余总，我建议我们在设备采购的合同上一定要特备要求，各设备厂家在设备安装调试期间，必须选派技术熟练的技术人员到场指导、或者监督，确保每一台设备的正确安装，乃至下一步的设备联试的顺利进行，最大程度的缩短调试周期！然后开始产生效益！哪怕是我们为此付出额外的设备安装指导的技术工人费用，都是非常值得的！”
“说的好！”听到鹿岛智树真知灼见，余子贤不仅为自己能够成功聘请鹿岛智树庆幸！以为下一步香积电的生产线升级庆幸！
想必，有这位专家监督，香积电的生产线升级改造会少走许多弯路，顺利许多！
“鹿岛叔，你还有什么补充的吗？”
“暂时没有了！”
“那其他人还有没有补充的？”
“没有……”
“没有！”
……
“那好，我再说两点：第一，我们暂时将生产线芯片工艺制程确定为1.2微米级别！我们4英寸晶圆的对应芯片工艺制程最小就是1.2微米！”
第二，程渡，你下来之后赶快联系曹飞他们，让他们再一次接触佳能，加强公关，争取让佳能尽早回复1.2微米光刻机步进式的出售可能性……并且让他们加快其他设备厂商的谈判，争取早日供货，最好在1个月内就能供货……
如果ASML这边的PAS2300最终能够谈妥，光刻机设备的供货可就马上到位了，其他设备的供货自然也需要加快！
“第三，佟若愚，下来之后，你马上通知蔡俊杰，让实验室再一次梳理1.2微米工艺流程，并且根据我们香积电的设备以及技术实际，制定严密的工艺导入和调试方案！”
“鹿岛叔，就辛苦你配合蔡俊杰的实验室，做好各种方案的审核等技术工作！”
“好的，余总！”鹿岛智树欣然答应。
突然，鹿岛智树想到什么，又接着说道：“余总，香积电目前3微米工艺对应的净化厂房和辅助动力设施的建设标准需要提高了……按照1.2微米工艺制程的需要，我建议……”
在鹿岛智树的建议下，最后决定同时升级厂房建设标准！
扩大5000平米净化厂房以及提高辅助动力设施，建设高标准、高质量的水气电动力保障，要求纯水质量达到20兆欧以上；二氧化氮、氧气、氢气等气体管道全采用高规格不锈钢管，并配置高纯度的气体净化器；供电也采用的是双路双电源供电，更换ms级自动切换电源装置，净化间洁净度分区采用1000级和100级，就连光刻间的黄光区也升级改造到10级！
这样下来，目前1.5微米的生产线所在的净化厂房以及动力设施达到了国际通用标准水平。
陈树林的1000万美元，给了余子贤提高工艺标准高的底气。而且这1000万只能专款专用，所以，余子贤其他的想法就没了，尽快的让这1000万美元变成可以生产芯片的生产线，这才是对他最好应用！
至于剩下的尾款缺口……应该“雪球计划”应该来得及！
就在余子贤安排最后的事务时，余子贤听到了门外敲门的声音。
余子贤住的酒店房间属于办公套房，小会议室、会客厅一应俱全。
没过两分钟，出去开门的程渡回来了，对于这些说道：“里托斯先生来了……”
“哦，没想到他们这么快来了……”
PS：抱歉，这几章专业性内容太强，查询了大量资料，更新修复上一章节（179章）有点慢，见谅。
另一个时空，光刻机的发展经过了一个漫长的过程，1960 年代的接触式光刻机、接近式光刻机，到 1970 年代的投影式光刻机，1980 年代的步进式光刻机，到步进式扫描光刻机，到浸入式光刻机和8102年的 EUV 光刻机，设备性能不断提高，推动集成电路按照摩尔定律往前发展。
曝光光源方面，从 1960 年代初到 1980 年代中期，汞灯已用于光刻，其光谱线分别为 436nm（g 线）、405nm（h 线）和 365nm（i 线）。然而，随着半导体行业对更高分辨率（集成度更高和速度更快的芯片）和更高产量（更低成本）的需求，基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求。
1982 年，IBM 的 Kanti Jain 开创性的提出了“excimer laser lithography（准分子激光光刻）”，并进行了演示，现在准分子激光光刻机器（步进和扫描仪）在全球集成电路生产中得到广泛使用。在在发展的 30 年中，准分子激光光刻技术一直是摩尔定律持续推进的关键因素。使得芯片制造中的最小特征尺寸从 1990 年的 500nm 推进至 2016 年 10nm，再到8102年的台积电和三星实现量产的 7nm 产品。
这其中，汞灯的436nm（g 线）、405nm（h 线）和 365nm（i 线），准分子激光248nm都指的是光刻机用来光刻的曝光光源。
1971年Intel 公司推出的10微米全球第一款4004微处理器，再到1980年2微米工艺的256Kb DRAM，1984年1微米工艺的1Mb DRAM，再到1991年此时即将问世的0.35微米工艺的64Mb DRAM ……10微米到0.35微米，指的是通过光刻机光刻等工艺，在芯片内部中，晶体管之间或者线最小可以做到的距离。
微米和纳米的概念，到底有多宽或者多细，大家可以体会一下：
1毫米（mm）等于1000微米（μm），一微米（mm）等于1000纳米（nm）。
而成年男性的头发直径一般在40到80微米之间，女性的头发直径则一般在20微米到40微米之间，小孩子的头发则是40微米左右。
也就是说，此时工艺为1微米的芯片中，晶体管的线宽大概是小孩头发直径的1/40；换而言之，直径40微米的头发横切之后的面积上，按照1微米的工艺光刻，可以光刻20-30个晶体管！
而光刻工艺越好，工艺制程越小，芯片集成度越高，性能越好，功耗越低。
所以，电子产品不断追求卓越性能的背后，是芯片的处理能力的不断上升！而反应到芯片生产厂家和芯片制造设备上，就是对芯片制程工艺的不断缩小和光刻机等设备光刻特征尺寸的不断缩小。
所以，余子贤一心一想要ASML可以制造出0.8微米工艺制程芯片的PAS5000光刻机，最次也要拿到1.2微米的PAS2300光刻机。甚至不惜，给ASML制造一些紧张气息，透露PAS5500扫描式步进光刻机的相关信息！
“你怎么知道我们PAS5500型光刻机即将上世的？”里托斯·基维先生站了起来，怼着余子贤的脸，严肃的问道！
“里托斯·基维先生，我们的合作的可能已经消失了……所以，很抱歉，我不可能告诉你原因的！”
“不不……余先生，一切皆有可能！”
“走吧……”余子贤直接带头站了起来，带着其他几个人向外走去！
余子贤就这样走出去，虽然更多的是想给ASML一些压力，让他们退让，愿意以合理价格出售自己想要的光刻机！就算是1微米的PAS2500出售有困难，但是如果ASML可以无偿将1.5微米的PAS2300升级到1.2微米，倒也不是不可以接受。
不过，余子贤在看到天下的乌鸦一般黑之后，已经做好了最坏的打算。之前，余子贤本来想着捡PAS2300的便宜，可是如果只是1.5微米的制程，余子贤还想再看一看，他想让曹飞他们再重点公关一下佳能，或许以可以接受的价格引进1.2微米的光刻机有可能！
里托斯·基维一看余子贤直接到这人走了，也是有点急了，再次大声喊道：“余先生，你等一等，我立即向总部申请！”
牵扯到PAS5500光刻机的上市，他不得不慎重。更何况，在他看来，香积电确实是PAS2300光刻机非常合适的买主！
目前，湾岛的苔积电和联华电厂房建设早已经结束，而前两年的苔积电，代工商业模式不被认可，订单稀少。经过这两年的发展，湾岛半导体行业才实现起步，开始逐步盈利。刚完成投资的苔积电，在短时间内很难继续再建设新生产线。
关键是随着PAS5500的上市，上市于85年PAS2300系列光刻机，处于即将被主流市场淘汰的边缘。
湾岛找不到买家，那么在尼康垄断的曰本和韩国市场，更不可能找到买家。难道真要运回去？
这些精密仪器，想要完好的运送回去，绕地球大半圈，从湾岛到芬兰，运费都在20万起步！
而一直放着也不是回事啊，既要给苔积电交场地租用费，还面临时间的推移和技术发展，这两台PAS2300光刻机不断贬值的危险！
可是想要满足香积电余子贤的要求，就需要对PAS2300光刻机进行升级，而且费用不小。一台50万美元的升级费用，如果算上人工材料等等费用没多要多少！
“首席，如果现在不乘机将这两台PAs2300卖出去的话，就不是赚多少的问题了，而是要亏损多少的问题！”
站在里斯托·基维里旁边的办事处销售代表阿莱克西斯·吕蒂（Aleksis·Ryti）忽然提醒道。
“……”从犹豫中抬起头的里斯托·基维却再没有看到余子贤他们的身影……跑到窗子跟前，看到是已经出了办公大楼余子贤他们的背影。
“哎，阿莱克西斯”，先给总部打电话吧，将这里的情况全部告诉他们，然后做进一步请示……”
“是的，里托斯首席。”阿莱克西斯低声说道。
而回到酒店的余子贤，正在召集大家集思广益。
“老板，我的工作没有做好，具体情况了解不到位！”佟若愚站了起来，首先自责并检讨道。
“佟总，您不必自责，这一次的谈判失败并不代表我们最终会失败，而且这一次，主要原因是我改变主意了。根据目前的技术发展，我们已经1.5微米工艺制程的设备，等我们大半年满产之后，主流工艺已经接近0.5微米了，会又落后一代。所以我想争取1微米的工艺，最不行1.2微米的工艺制程要保证！”
余子贤叹息了一口气，又说道：“只是没想到升级费用要50万，要价太狠！想买他们1微米PAS2500的光刻机，他们又不卖！”
“不过，等着吧，他们有可能还会上门来找我们的！”余子贤对于自己最后留下的诱饵有一半把握。
“鹿岛叔，结合你在NEC的经验，你先说说你的看法吧！”之前，鹿岛智树没怎么多说话。
在余子贤看来，鹿岛智树在NEC供职时期，何曾愁过设备的问题，所有的一切都有NEC操心，鹿岛智树他们只负责生产运维就行！
“余总，其实对于ASML的设备，我不熟悉，以前也未曾使用过。所以我想说的不多。不过我想强调一点的是，设备制造标准的统一性，具体来说就是和目前香积电已经存在的3微米光刻机的协调配合，甚至与曰本其他厂商生产的刻蚀机、离子注入机等设备配合，都要考虑在内！”
鹿岛智树给大家进一步解释……
香积电的工艺实验室（研发中心）和厂里生产线的批量生产的设备虽然属于同一机种，要将实验室的工艺导入到生产线，对生产线进行升级，想要得到最终理想的目标工艺结果，比如说1.2微米的工艺制程，就必须不断的对生产线的设备或者工艺做进一步调整，最后找到一个微妙的合适的某一点，或者无限接近这个点，最终让所有的设备和工艺处于最佳的状态，良率大幅度提高，确保在80以上……
如果这个点找不出来，就算是可以调试出1.2微米的制程来，但是良率会上不去……甚至有可能良率为零的可能！
要知道，即使是同一家生产的同一个规格型号的设备，也是存在这微小的性能和状态差异，这种差异称之为“机差”。
“机差”，是每一个半导体制造设备厂家在生产同一型号的设备时，因不可控因素的存在而导致的设备差异。
随着半导体设备精密化程度的不断提高，机差的问题也日益显著。
正是因为机差等各种因素影响，一般来说，新建设的生产线试生产时，初始良率几乎都是零。而将良率尽快提高到接近80%（或者某一目标值），并且长期维持接近80%（或者某一目标值）的成品率的技术，才是工厂批量生产的最终目标和要求！
“所以，余总，我建议我们在设备采购的合同上一定要特备要求，各设备厂家在设备安装调试期间，必须选派技术熟练的技术人员到场指导、或者监督，确保每一台设备的正确安装，乃至下一步的设备联试的顺利进行，最大程度的缩短调试周期！然后开始产生效益！哪怕是我们为此付出额外的设备安装指导的技术工人费用，都是非常值得的！”
“说的好！”听到鹿岛智树真知灼见，余子贤不仅为自己能够成功聘请鹿岛智树庆幸！以为下一步香积电的生产线升级庆幸！
想必，有这位专家监督，香积电的生产线升级改造会少走许多弯路，顺利许多！
“鹿岛叔，你还有什么补充的吗？”
“暂时没有了！”
“那其他人还有没有补充的？”
“没有……”
“没有！”
……
“那好，我再说两点：第一，我们暂时将生产线芯片工艺制程确定为1.2微米级别！我们4英寸晶圆的对应芯片工艺制程最小就是1.2微米！”
第二，程渡，你下来之后赶快联系曹飞他们，让他们再一次接触佳能，加强公关，争取让佳能尽早回复1.2微米光刻机步进式的出售可能性……并且让他们加快其他设备厂商的谈判，争取早日供货，最好在1个月内就能供货……
如果ASML这边的PAS2300最终能够谈妥，光刻机设备的供货可就马上到位了，其他设备的供货自然也需要加快！
“第三，佟若愚，下来之后，你马上通知蔡俊杰，让实验室再一次梳理1.2微米工艺流程，并且根据我们香积电的设备以及技术实际，制定严密的工艺导入和调试方案！”
“鹿岛叔，就辛苦你配合蔡俊杰的实验室，做好各种方案的审核等技术工作！”
“好的，余总！”鹿岛智树欣然答应。
突然，鹿岛智树想到什么，又接着说道：“余总，香积电目前3微米工艺对应的净化厂房和辅助动力设施的建设标准需要提高了……按照1.2微米工艺制程的需要，我建议……”
在鹿岛智树的建议下，最后决定同时升级厂房建设标准！
扩大5000平米净化厂房以及提高辅助动力设施，建设高标准、高质量的水气电动力保障，要求纯水质量达到20兆欧以上；二氧化氮、氧气、氢气等气体管道全采用高规格不锈钢管，并配置高纯度的气体净化器；供电也采用的是双路双电源供电，更换ms级自动切换电源装置，净化间洁净度分区采用1000级和100级，就连光刻间的黄光区也升级改造到10级！
这样下来，目前1.5微米的生产线所在的净化厂房以及动力设施达到了国际通用标准水平。
陈树林的1000万美元，给了余子贤提高工艺标准高的底气。而且这1000万只能专款专用，所以，余子贤其他的想法就没了，尽快的让这1000万美元变成可以生产芯片的生产线，这才是对他最好应用！
至于剩下的尾款缺口……应该“雪球计划”应该来得及！
就在余子贤安排最后的事务时，余子贤听到了门外敲门的声音。
余子贤住的酒店房间属于办公套房，小会议室、会客厅一应俱全。
没过两分钟，出去开门的程渡回来了，对于这些说道：“里托斯先生来了……”
“哦，没想到他们这么快来了……”
PS：抱歉，这几章专业性内容太强，查询了大量资料，更新修复上一章节（179章）有点慢，见谅。